traxx - 使用FBMS技术,实现无拼接错误的连续直写

traxx是基于FBMS曝光技术实现“零拼接误差”的独特功能模块。 traxx专用于Raith电子和离子束光刻系统,其他矢量扫描的电子束光刻设备供应商无法提供此功能。与传统的拼接曝光不同,traxx利用精密复杂的FBMS进行独特的连续直写。电子束/离子束保持固定的同时,下面的工作台按照设计图形的任意形状的路径进行运动。图形可以是几毫米至几个厘米长,同时在横向尺寸上保持线宽从低于20纳米至微米级别,而且具有最小线边缘粗糙度。使用这种独特的连续直写模式可以避免任何拼接错误,从而提高诸如(锥形)波导和X射线光学元件等光子器件的质量和传输。 traxx完全集成在Raith Nanosuite软件中,而且完全兼容内置的GDSII数据处理编辑器。 traxx可安装于 VOYAGERRAITH150 Two, eLINE PlusionLINE Plus。如果您有兴趣升级现有仪器,请咨询Raith中国。

periodixx –使用MBMS技术,实现无拼接误差的周期图案加工

periodixx是一种实现“零拼接误差”的新型独特的曝光技术。 periodixx专用于Raith电子和离子束光刻系统,其他矢量扫描的电子束光刻设备供应商无法提供此功能。为了满足具有周期性结构的高端器件的加工需要,Raith提供了periodixx - 专用的无拼接误差的曝光模式,它在高斯矢量扫描的电子束曝光机和聚焦离子束设备中是独一无二的。这一新功能基于Raith的调制束流移动工作台(MBMS)技术,该技术是现有的traxx曝光模式(固定束流移动工作台)的补充。在periodixx曝光模式中,电子束/离子束移动被定义为重复曝光和激光干涉工作台的同步连续移动的组合,从而得到没有拼接误差的条纹形状的周期性结构。相反,FBMS允许连续地直写诸如无拼接的光波导等的细长路径,其路径的宽度由动态电子束/离子束扩展决定。 periodixx完全集成在Raith Nanosuite软件中,而且完全兼容内置的GDSII数据处理编辑器。periodixx可安装于VOYAGER, RAITH150 Two, eLINE PlusionLINE Plus。如果您有兴趣升级现有仪器,请咨询Raith中国。

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