聚焦离子束加工技术

聚焦离子束加工技术:35kV-采用先进的镓离子技术的nanoFIB Three

Raith的专利离子源和光学系统将传统的聚焦离子束系统FIB提升到光刻系统的性能水平,并重新定义了聚焦离子束系统FIB技术。nanoFIB Three技术已经发展到满足先进纳米制造的所有关键要求,如离子束长期稳定性,极高的定位精度和高分辨率加工能力等。由于离子源的液体流量部分进行了优化,以及具有专利技术的发射控制部分,nanoFIB Three在连续长期运行期间也可以保证探针电流和束位置漂移非常小。离子束光学系统通过设计优化,实现了极高的分辨率和优异的束斑特性 –束斑点中心非常窄和束流尾部低,非常适合高分辨率纳米加工。

聚焦离子束加工技术: 35kV nanoFIB Three IONselect多种类离子选择技术

IONselect离子选择技术可以实现对现有的nanoFIB Three光学系统做升级,以提供镓离子以外的其他新型离子源。液流优化的合金离子源和低像差离子选择器集成到光学系统中,可以非常容易地在同一个合金离子源中进行不同种类离子的切换。不管使用Si还是Au离子束,nanoFIB Three的高分辨率和稳定性都可以很好的保证,并且处理方便。这种多种类离子束技术在增强亚10纳米尺度的纳米加工和成像领域将有更多特性等待探索。

返回查看

注册用户登录: