电子束曝光技术

电子束技术:100kV EBPG

EBPG产品在电子束光刻领域积累超过45年的经验。优秀的工程学、精心引进的创新技术、对稳定性和性能最大化的不断追求,使EBPG成为了卓越的产品。 100kV电子光学系统,全自动样品传送和图形界面的软件,对工业用户以及卓越纳米加工中心至关重要。

电子束技术: 50kV eWrite

植入到VOYAGER的eWrite技术使其在曝光速度和分辨率方面成为高性能的电子束曝光系统的关键原因。新研发的50kV电子光学系统,50MHz图形发生器和代表高水平的数据处理技术使其可以满足当今光子学和防伪标签方面的迫切应用需求。

电子束技术:30kV Gemini

30kV Gemini技术在低于10nm线宽控制方面达到了先进水平。独特的Gemini透镜和二次电子探测器保证了高品质的成像质量。Raith基于这项技术的仪器已成为全球纳米加工领域中的主力设备。

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