多功能电子束曝光技术

纳米技术学科的尖端研究不应该受限于特定的技术和工艺。Raith公司的多功能电子束光刻系统集成了开放平台仪器所具有纳米光刻系统预期的灵活性。

产品
探索电子束曝光技术之外的纳米工程技术

多功能纳米光刻设备,将电子束曝光和开放的平台相结合,可用于多功能纳米加工。eLINE Plus可选择不同的多种功能附件,是目前功能齐全、独特的兼具多功能纳米加工能力的电子束光刻机。

了解更多多功能纳米工程电子束曝光系统 eLINE Plus
电子束曝光和电子束成像的完美结合

EBL-SEM混合设备将先进的纳米加工和SEM成像分析能力结合在一个系统中。PIONEER Two定义了一种全新的独特的经济实惠的电子束光刻机,兼具了纳米加工和SEM成像分析功能。

了解更多PIONEER Two电子束曝光机

Inlens探头,FEBIP和纳米操作

纳米加工工艺的主要优点是能够通过inlens探头识别和鉴定纳米结构。聚焦电子束诱导过程 - FEBIP和原位纳米操纵技术扩展了建立于纳米加工技术的范围。

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