聚焦离子束纳米加工系统

聚焦离子束通过提供各种直写图案和掩模技术来补充整个纳米加工过程。直接研磨、沉积和刻蚀加工可帮助简化纳米加工过程,降低工艺开发难度。除了标准的抗蚀剂光刻,无光刻胶硬掩模,离子注入和表面功能化功能可用于选择性地修饰一种材料或引导后续的工艺加工步骤。

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Choose the VELION for your nanofabrication requirements and benefit from a new FIB-SEM instrument in which FIB is the true priority technique. Supported by a field emission SEM and Raith´s unique Laser Interferometer Stage VELION meets the most demanding requirements both in R&D nano prototyping as well as sample preparation and microscopy.

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超越镓的聚焦离子束加工系统

聚焦离子束技术理想的补充了基于电子束光刻的纳米加工技术。因此当一个系统具有光刻级别稳定性,高自动化,高可重复性和高分辨率,FIB和EBL会成为完美的伴侣。另外,Raith的专利FIB技术可扩展到稳定传递一系列超越镓离子新的离子源,例如Si,Au等等。这种离子种类易于选择的,完成时间在几秒钟内,而且可用于新的更强大的工艺中。另外,这一技术可扩展适用特殊应用的离子源,如量子技术中的离子流入。

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氦和氖的纳米图案化和成像

聚焦氦和氖离子束因其互补优势,为纳米图案开辟了新途径。这些来自于气场离子源的非常轻的离子,可提供不同的离子束与材料之间的相互作用,实现更低的刻蚀速率,但可实现更高的侧向加工精度。在显微镜平台的基础上,蔡司ORION Nanofab与ELPHY MultiBeam相结合,可以实现超精细图形的加工。通过使用氦和氖离子束与利用EBL或FIB纳米加工设备的混合加工方法相结合,可以将纳米加工提升到一个新的水平。此外,高表面灵敏度可实现出色的成像性能。

阅读更多关于ZEISS和Raith在各自的综合报道中所论述的合作关系。

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