专业的电子束光刻设备

专业的电子束光刻系统可满足工业用户对自动化程度及产量的需求,也可满足纳米中心的要求,使其可以对外提供很好的纳米光刻服务。

产品
优先技术

EBPG5200高分辨电子束曝光机具备在100kV加速电压下加工8英寸样片的能力。其全自动化程度和曝光的高分辨率,保证了在科研和半导体加工领域的领先的加工能力。

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100kV入门技术

EBPG5150可实现100kV电子束曝光,可用于科研和工业领域广泛的直写应用中。凭借其高分辨率、高自动化、高速曝光等优势,可经济实惠地实现6英寸样品的加工。

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快速、智能、创新、经济!

凭借其创新的架构、经济实惠的价格、可保证最佳精度快速曝光的性能,VOYAGER电子束光刻机降低了高速专业电子束曝光机的门槛。

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满足您的技术需求

RAITH150 Two电子束光刻机可以实现超高分辨电子束曝光功能,并且具有良好的高分辨成像能力。可在毫米级小样品至8英寸硅片样品上,实现小于8nm结构的加工。RAITH150 Two设备配备的热稳定性控制系统可保证在稍差环境也能得到所需曝光结果。

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领先纳米光刻系统

领先合格的性能指标满足所要求的重复性。由最具经验的工程师和后勤人员组成的电子束曝光领域最大的专业售后团队,将为这些专业电子束曝光设备的充分利用提供可靠保障。

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