Raith为电子束曝光、聚焦离子束光刻系统、纳米工程以及逆向工程提供创新的解决方案。
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不只是电子束光刻

聚焦离子束、针对所有聚焦电子和离子显微镜的升级选件,以及逆向工程仪器完美组成了市场上宽泛的纳米加工产品组合。

电子束光刻和SEM / FIB-SEM / HIM升级选件

Raith为批量生产、化合物半导体器件加工,及单纯纳米光刻提供创新的解决方案,在科研和生产领域发挥着重要作用。

另外,产品范围从多功能电子束光刻设备,可实现多个不同的应用功能,到纳米光刻和纳米加工升级选件。后者是对所有聚焦电子束、离子束完美的附件升级方案。

聚焦离子束纳米光刻

聚焦离子束纳米光刻引进了新的工艺方式,比如研磨、沉积或刻蚀,因此是电子束光刻的理想补充。另外聚焦离子束研磨、硬掩模、无罩离子注入和表面功能化这些进一步的离子束技术使纳米加工更加高效。另外除了镓以外的多种新离子的使用加强了工艺和成像质量。

专业的逆向工程

CHIPSCANNER 是Raith唯一的经过验证的在大面积电镜应用诸如防伪、知识产权保护和设备报废方面的专业逆向工程解决方案。

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