
专业的纳米光刻附件
采用实地验证过的技术,建立了简单易获取的支持和培训体系。
ELPHY Plus图形处理器采用最严谨的设计,可以提供无可挑剔的电信号性能。这是实现超高分辨率、高精度、高稳定性的纳米光刻的先决条件,特别是安装在先进的高电流密度的热场发射扫描电镜中。
高精度,高速度
- 提供完整的现场设备安装和培训
- 建立了免费的全球技术支持体系,可提供最广泛的纳米加工和纳米光刻应用支持
- 设备简单易操作,完美集成了Raith NanoSuite软件
- 设备可实现灵活升级,或者通过以旧换新的方式升级为Raith产品线中的其他产品
- 通过用户认证和设备相关参数的管理,实现真正的多用户管理。用户可以轻易找回自己上次退出前的系统设置
- 高速12MHz双DAC寻址用于XY电子束偏转(16bit)
- 高精度的6个附加的16bit乘法DAC ,用于高精度的套刻对准、多层光刻,以及具备亚纳米步距控制的写场校准
- 独立的热稳定和高频屏蔽的19inch电子控制单元,基于DSP技术,实现了超高性能,如低噪声,高精度、长时间稳定性,以保证复杂的应用
- 专业的NanoPECS邻近效应修正软件和高级的三维曝光软件,以及校准标样、测试样片、电子束曝光工具箱,和其他可选附件
为将来做好准备
ELPHY纳米光刻和纳米加工升级附件是将SEM, FIB-SEN, HIM系统升级为电子束/离子束光刻的完美的、最灵活的、高性价比的解决方案。已完成约1000套ELHPY设备安装,它是市场销量最大的SEM/FIB光刻升级附件。Raith Nanosuite软件不仅内置于ELPHY附件中,同时也安装在Raith整套电子束曝光系统中,软件维护和升级非常简单。
您可以申请在线软件演示,发现特别之处。
ELPHY Plus 应用案例
ELPHY Plus 产品详情
主要应用:
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附件:
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工作台:
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ELPHY Plus Downloads
- ELPHY 产品手册(PDF)
- Raith产品手册