Illustration of Nanolithography "pen" - ELPHY Plus is the nanolithography upgrade for your SEM or FIB-SEM — Nanolithography “pen” – ELPHY turns your SEM or FIB-SEM into a nanofabrication system

专业的纳米光刻附件

采用实地验证过的技术，建立了简单易获取的支持和培训体系。

ELPHY Plus图形处理器采用严谨的设计，可以提供无可挑剔的电信号性能。这是实现超高分辨率、高精度、高稳定性的纳米光刻的先决条件，特别是安装在先进的高电流密度的热场发射扫描电镜中。

高精度，高速度

提供完整的现场设备安装和培训
建立了免费的全球技术支持体系，可提供广泛的纳米加工和纳米光刻应用支持
设备简单易操作，完美集成了Raith NanoSuite软件
设备可实现灵活升级，或者通过以旧换新的方式升级为Raith产品线中的其他产品
通过用户认证和设备相关参数的管理，实现真正的多用户管理。用户可以轻易找回自己上次退出前的系统设置
高速12MHz双DAC寻址用于XY电子束偏转（16bit）
高精度的6个附加的16bit乘法DAC ，用于高精度的套刻对准、多层光刻，以及具备亚纳米步距控制的写场校准
独立的热稳定和高频屏蔽的19inch电子控制单元，基于DSP技术，实现了超高性能，如低噪声，高精度、长时间稳定性，以保证复杂的应用
专业的NanoPECS邻近效应修正软件和高级的三维曝光软件，以及校准标样、测试样片、电子束曝光工具箱，和其他可选附件

为将来做好准备

ELPHY纳米光刻和纳米加工升级附件是将SEM, FIB-SEN, HIM系统升级为电子束/离子束光刻的完美的、灵活的、高性价比的解决方案。已完成约1000套ELHPY设备安装，它是市场销量很大的SEM/FIB光刻升级附件。Raith Nanosuite软件不仅内置于ELPHY附件中，同时也安装在Raith整套电子束曝光系统中，软件维护和升级非常简单。

您可以申请在线软件演示，发现特别之处。

ELPHY Plus 应用案例

CMOS decoder circuit, aligned ebeam pattern with CMOS Metal 5 viasKuk-Hwan Kim, EECS, University of Michigan, USA
Magnetic resonance sensor
Photonic crystal structure in membrane (underetched)William Whelan-Curtin, University of St. Andrews, UK

ELPHY Plus 产品详情

主要应用:

SEM光刻
FIB-SEM纳米光刻以及纳米图形化

附件:

可以安装在任意SEM, FIB-SEM, HIM系统中

工作台:

由SEM, FIB-SEM,HIM设备性能决定

ELPHY Plus Downloads

ELPHY 产品手册(PDF)
Raith产品手册

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