纳米光刻和纳米加工升级附件
纳米图形化标准: ELPHY MultiBeam -纳米加工升级图片
挖掘SEM, FIB-SEM, HIM等系统的纳米加工潜力
用于所有聚焦离子束/电子束系统的纳米光刻和纳米加工升级附件
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纳米光刻笔 – ELPHY可将您的扫描电子显微镜(SEM)或聚焦离子束系统(FIB-SEM)扩展为纳米加工系统
纳米光刻笔 – ELPHY可将您的扫描电子显微镜(SEM)或聚焦离子束系统(FIB-SEM)扩展为纳米加工系统

纳米图案化基准

经实地验证过的技术,建立了简单易获取的支持和培训体系。

ELPHY MultiBeam代表了一种新的SEM或FIB-SEM改造纳米光刻技术的标准,结合了最先进的技术用于三维离子束加工和具备最佳性能电子束三维加工技术,有利于您最大程度地开拓您的SEM,FIB-SEM和HIM设备的纳米加工潜力。

ELPHY MultiBeam将所有的广泛的多种纳米图形化技术集成在一个系统中,可用于聚焦离子束切割、刻蚀、沉积、离子束光刻、电子束光刻、气体辅助电子束诱导工艺和氦离子图形化等。

不可预知的可能性

  1. 提供完整的现场设备安装和培训
  2. 建立了免费的全球技术支持体系,可提供最广泛的纳米加工和纳米光刻应用支持
  3. 设备简单易操作,完美集成了Raith NanoSuite软件
  4. 设备可实现灵活升级,或者通过以旧换新的方式升级为Raith产品线中的其他产品
  5. 通过用户认证和设备相关参数的管理,实现真正的多用户管理。用户可以轻易找回自己上次退出前的系统设置
  6. 采用最高速度为20MHz 双DAC用于XY方向束偏转的寻址(16bit),低噪声差分输出
  7. 高精度的6个附加的16bit乘法DAC ,用于高精度的套刻对准、多层光刻,以及具备亚纳米步距控制的写场校准
  8. 独立的热稳定和高频屏蔽的19inch电子控制单元,基于DSP技术,获得超高性能,如低噪声,高精度和长时间稳定性,保证复杂的应用
  9. 具备了触摸显示屏的多路I/O信号路由器,方便人工或全自动的在ELPHY和其他共用外部扫描接口的辅助设备,如EDX、WDX等信号之间的切换
  10. 具备FLEXposure多样化的扫描模式,灵活的设计图形属性管理,处方管理,直接在现有图片上进行GDSII作图功能(POI)
  11. 专业的NanoPECS邻近效应修正软件和高级的三维曝光软件,以及校准标样、测试样片、电子束曝光工具箱,和其他可选附件

依靠真实验证的技术,为将来做好准备

ELPHY纳米光刻和纳米加工升级附件是将SEM, FIB-SEN, HIM系统升级为电子束/离子束光刻的完美的、灵活的、高性价比的解决方案。已完成约1000套ELHPY设备安装,它是市场销量最大的SEM/FIB光刻升级附件。Raith Nanosuite软件不仅内置于ELPHY中,同时也安装在Raith整套电子束曝光系统中,软件维护和升级非常简单。

您可以申请在线软件演示来进行比较。

 

ELPHY MultiBeam 产品详情

主要应用:
  • 纳米级光刻
  • SEM光刻
  • FIB-SEM纳米光刻以及纳米图形化
  • 氦离子显微镜 – HIM – 光刻
  • (三维)快速纳米原型设计
附件:
  • 可以安装在任意SEM, FIB-SEM, HIM系统中






工作台:
  • 由SEM, FIB-SEM,HIM设备性能决定




 

 

ELPHY MultiBeam 资料下载

  1. ELPHY系列 产品手册(PDF)
  2. Raith系列产品手册

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