专业电子束曝光系统
高性能电子束曝光系统EBPG5200的图片
优先技术
高性能电子束曝光系统
硅片从一台EBPG5200电子束曝光机的真空闸中取出的图片
可选择8英寸的硅片放置在10工作位的真空闸中使用

高性能电子束曝光机

自动化高速度的高精度电子束曝光技术

EBPG5200是一款高性能的纳米光刻系统,拥有完整200mm尺寸的光刻能力,这款电子束光刻系统代表了不断进化的高度成功和广为市场接受的EBPG系列产品。它提供了不同用途的最新解决方案,包括纳米尺度的电子束直写和大学研究所,以及商业化的生产力中心研发用的掩膜版制作。

 

 

同时,系列产品还包括新的EBPG5150电子束直写系统,使用了相同的平台设计,是一款155mm*155mm尺寸平台的系统。

Improved Specifications

  • Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
  • Extreme beam current up to 350 nA
  • Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm

 

  1. 高束流密度,热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换
  2. 200mm的平台可以曝光完整8英寸的硅片或者7英寸的掩膜版
  3. 最小曝光特征尺寸小于8nm
  4. 高速度曝光,可采用50或100MHz的图形发生器
  5. 在所有KVs加速电压下,可连续改变的写场大小,最大可以到1mm
  6. GUI人机交互界面友好,简洁易用,适用于多用户环境
  7. 多项灵活可选择的配置,可以适用于不同应用的需求

模块化的系统架构

模块化的系统架构设计,可以让用户根据需要选择配置,可以在将来技术升级的时候,保护用户的初始投资,提供不同类型的升级策略。

电子束曝光系统EBPG5200 产品详情

主要应用:
  • 100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构
  • 高速电子束直写
  • 批量生产, 如化合物半导体器件
  • 防伪标识
电子光学柱技术:
  • EBPG
  • 电子束
  • 100 kV


样品台:
  • 覆盖完整8英寸硅片大小
  • Z轴垂直高度大范围可调(可选)
  • 10工位自动上料


 

电子束曝光系统EBPG5200 资料下载

  1. EBPG系列产品手册(PDF)
  2. Raith产品手册

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