高性能电子束曝光机
自动化高速度的高精度电子束曝光技术
EBPG5200是一款高性能的纳米光刻系统，拥有完整200mm尺寸的光刻能力，这款电子束光刻系统代表了不断进化的高度成功和广为市场接受的EBPG系列产品。它提供了不同用途的最新解决方案，包括纳米尺度的电子束直写和大学研究所，以及商业化的生产力中心研发用的掩膜版制作。
Improved Specifications
- Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
- Extreme beam current up to 350 nA
- Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm
- 高束流密度，热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换
- 200mm的平台可以曝光完整8英寸的硅片或者7英寸的掩膜版
- 最小曝光特征尺寸小于8nm
- 高速度曝光，可采用50或100MHz的图形发生器
- 在所有KVs加速电压下，可连续改变的写场大小，最大可以到1mm
- GUI人机交互界面友好，简洁易用，适用于多用户环境
- 多项灵活可选择的配置，可以适用于不同应用的需求
模块化的系统架构
模块化的系统架构设计，可以让用户根据需要选择配置，可以在将来技术升级的时候，保护用户的初始投资，提供不同类型的升级策略。
电子束曝光系统EBPG5200 应用
-
圆光栅谐振腔 AMO GmbH, Germany -
6nm分辨率（100KV，HSQ）Raith -
垂直谐振隧道晶体管 FZ Juelich, Germany -
化合物半导体应用 -
5nm密集线条Delft University, The Netherlands
电子束曝光系统EBPG5200 产品详情
|
主要应用：
|
电子光学柱技术：
|
样品台：
|
电子束曝光系统EBPG5200 资料下载
- EBPG系列产品手册(PDF)
- Raith产品手册