专业电子束曝光系统
高性能纳米光刻系统EBPG5150的图片
优选技术
高性能电子束直写系统
带自动系统校准的电子光学柱
电子束直写系统EBPG的电子光学柱

电子束直写系统

自动化和高速度的电子束直写技术

电子束直写系统EBPG5150使用了155mm大小的样品台,采用跟电子束曝光机EBPG5200一样的通用光刻平台设计,对电子束直写应用进行了优化。它可以载入不同大小的样品,包括多片散片以及完整的硅片。 

 

 

Improved Specifications

  • Ultra-fast, low-noise pattern generator 125 MHz
  • Extreme beam current up to 350 nA
  • Excellent direct write performance with overlay accuracy of ≤ 5nm

 

  1. 高束流密度,热场发射电子枪可以在20、50和100kV之间切换
  2. 155mm的平台
  3. 最小曝光特征尺寸小于8nm
  4. 高速度曝光,可采用50或100MHz的图形发生器
  5. 在所有KVs加速电压下,可连续改变的写场大小,最大可以到1mm
  6. GUI人机交互界面友好,简洁易用,适用于多用户环境
  7. 多项灵活可选择的配置,可以适用于不同应用的需求

可选的系统增强升级

EBPG5150可以选择不同的升级选项,以满足用户不同的技术和预算需求。让全世界的高校等研究类用户也可以使用这款非常先进、高自动化的电子束光刻系统。

 

电子束直写系统EBPG5150 产品详情

主要应用:
  • 100KV高加速电压可用于曝光高深宽比纳米结构
  • 高速电子束直写
  • 批量生产,如化合物半导体器件
  • 防伪标识
电子光学柱技术:
  • EBPG
  • 电子束
  • 100 kV


样品台:
  • 覆盖完整6英寸硅片大小
  • 标配2工位自动化上料
    (10工位可选)

 

 

电子束直写系统EBPG5150 资料下载

  1. EBPG系列产品手册(PDF)
  2. Raith产品手册

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